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微納制造技術發展趨勢

文章出處:未知 責任編輯:admin 閱讀量: 發表時間:2021-04-06 17:26
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據橙河科技小編了解,迄今為止人們所見到并親身感受到的微納制造技術的進步是各種微型電子產品的發展。IC芯片功能日益強大,微傳感器、微驅動器、微光學元件、生化分析芯片等在現代工業和生活的各個領域都得到了廣泛的應用。

微納制造技術發展趨勢

但是現在這些微電子和微系統仍然以單元系統的形式獨立存在。未來十年微納制造的發展趨勢是將這些分離的功能集成到一個芯片或一個元件中,形成所謂芯片上的微系統或封裝單元內的微系統,這是數年前就在集成電路行業內部開始的。

以往的IC芯片功能單一,微處理器、存儲器、接口電路、數字和模擬電路等功能單一。一套完整的電路系統在印刷電路版上由這些具有不同功能的芯片組合而成,現在的集成電路芯片正向把所有這些功能整合為一塊的方向發展。

將來不僅要實現集成電路的集成,還要實現微電子機械、微傳感器、微流體系統、微光學系統和集成電路的集成。解決這一問題的最大挑戰是發展完全兼容的低成本微納制造技術。同時也為微納制造技術的發展提出了新的課題。

微納米制造技術是一個正在發展的技術領域??萍歼M步,新技術代替舊技術,先進技術代替落后技術是客觀規律。加工技術本身一直只是一種手段,它為科學研究或工業產品開發提供服務。所以新的科研課題或新的工業產品開發都會不斷地對加工技術提出新的要求。新型加工技術將不斷涌現。

在集成電路的發展過程中,使電路尺寸變得更小一直是業界不懈追求的目標?,F有的證據表明,傳統晶體管的工作原理仍然適用于小于50納米的結構尺寸。同時,量子裝置能使電路的尺寸小于10納米。無論是納米電子還是分子電子器件,都對工藝性能提出了更高的要求。

橙河科技小編了解到目前光學曝光技術能達到約45納米的分辨率。在光學曝光技術退出歷史舞臺的同時,還伴隨著超紫外線技術、納米壓印技術、電子束投影曝光技術和彎月面限域電沉積技術等。這幾個“后光學時代”的微納制造技術還有待進一步的發展和完善。

為使納米科學研究在未來實現產業化,必須發展高生產率、低成本的微納制造技術。目前已經有了微納米結構加工技術。NANA微納金屬制造技術已能制造出約100納米的結構。

總而言之,橙河科技小編認為微納制造技術具有無限的發展潛力。新型加工技術不斷涌現。與此同時,對現有工藝技術的巧妙利用也有助于研制出新穎的微納米器件和系統。毫不夸張地說,未來50年是微納米制造技術蓬勃發展的時期。


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